Гонка за освоение техпроцесса по нормам 45 нм вступает в тот этап, когда производители называют сроки выпуска серийной продукции. По данным источника, Toppan Chunghwa Electronics (TCE), дочернее предприятие японской Toppan Photomasks, готовится выпускать фотошаблоны для 45-нм техпроцесса уже в будущем году.
Более того, TCE уверена, что сможет заменить в роли основного поставщика фотошаблонов на тайваньском рынке компанию Taiwan Mask Corporation (TMC), которой сейчас принадлежит около 60% рынка.
Тому есть серьезные основания. В прошлом месяце TCE начала отправку потребителям 80-нм фотошаблонов. Серийно производятся и 70-нм фотошаблоны, предназначенные для выпуска микросхем памяти DRAM. Последнее достижение – прогресс в освоении фотошаблонов для 45-нм техпроцесса. Как утверждает компания, они запланированы к серийному выпуску во второй половине 2007 года.
Источник: DigiTimes.com