More Moore, исследовательский проект, финансируемый Еврокомиссией и фокусирующийся на развитии технологии Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL) в Европе, объявил о значительном достижении, к которому причастен производитель инструментария Focus GmbH и два немецких университета.
Речь идет о создании фотоэмиссионного электронного микроскопа, который способен измерять объекты размером порядка 20 нм, не разрушая их.
Для масок EUVL необходима возможность неразрушающего контроля, которая до настоящего времени была недоступна. Обычно применяемые методы, построенные на применении сканирующего электронного микроскопа, не могут обнаружить дефекты, спрятанные под многослойным покрытием заготовок фотошаблона EUVL. Таким образом, появление нового инструмента является значительным шагом для технологии.
Напомним, EUVL является кандидатом на роль технологии нового поколения для производства полупроводниковых микросхем. Ее основным преимуществом является возможность перехода на более тонкие нормы – начиная с 32 нм (сравните с применяемыми сейчас 65-нм нормами). Таким образом, переход на EUVL откроет возможность продолжить увеличивать количество транзисторов на единицу площади кристалла в соответствии с законом Мура (Moore), по имени которого и назван европейский проект.
Проект More Moore объединяет множество европейских компаний, включая ASML, Phystex, Zeiss, AMTC, Philips EUV, XTREME technologies, FOCUS, SIGMA-C, AZ Electronic Materials, Schott Lithotec, Philips, XENOCS, Sagem Defense Securite, Imagine Optic, EPPRA и Media Lario. Кроме того, в работе участвуют академические и научно-исследовательские заведения: IMEC, CEA Leti, CNRS, TNO, FOM Rijnhuizen, Fraunhofer Institute, ISAN and IPM RAS (Россия), ENEA, ELETTRA, NCSR, университеты Bielefeld, Mainz, Delft и Birmingham.
Источник: More Moore