Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

ПредыдущаяСледующая

Вчера мы рассказывали об успехах компании IBM в деле освоения новых рубежей ультрафиолетовой иммерсионной литографии. Казалось бы, производители полупроводников получили надежду на то, что существующие технологии позволит им продержаться до подхода новых разработок. Однако не все так просто. Использование литографии все еще остается под большим вопросом, когда речь заходит о нормах 32 нм, освоение которых, по предварительным оценкам, ожидается в 2009 году. Источник рассказывает об опасениях, которыми вчера поделились эксперты бельгийской исследовательской организации IMEC на конференции SPIE Microlithography.

Дело в том, что в отрасли нет единого мнения, какая из разновидностей литографической технологии может быть использована при переходе к 32-нм процессу. Пока обозначилось три технологии-кандидатки: ультрафиолетовая (EUV), 193-нм иммерсионная (использованная в разработке IBM) и технология с двойным экспонированием.

По мнению представителя IMEC, 193-нм иммерсионная технология и технология с двойным экспонированием являются "наименее рискованными". В своей лаборатории IMEC удалось с помощью 193-нм иммерсионной технологии изготовить элементы размером 40 нм. Использование иммерсионных жидкостей второго и третьего поколений с показателем преломления 1,65 и 1,8, теоретически, может обеспечить работу с нормами 32 нм. Как раз над созданием таких жидкостей и работают ученые.

Недостатки технологии с двойным экспонированием - повышенная стоимость, усложнение и удлинение производственного цикла.

Что касается EUV, то главными проблемами этой технологии являются разрешение и чувствительность фоторезиста, неоднородность краев линий. Кроме того, для EUV необходимы новые источники излучения. Срок жизни конденсора для EUV сейчас не превышает одного месяца. Ранее ожидалось, что к 2006 году удастся создать устройство, срок службы которого составит четыре года.

Могут ли такие трудности остановить стойких приверженцев EUV? По сведениям источника, оказавшись без соответствующего оборудования и материалов к намеченному ранее сроку, компания Intel отставила в сторону планы по внедрению EUV в серийном производстве по нормам 32 нм к 2009 году. Вместо этого, Intel теперь собирается сделать ставку на 193-нм литографию.

Источник: EE Times

21 февраля 2006 Г.

11:54

Ctrl
ПредыдущаяСледующая
194
194

Все новости за сегодня

Облачный сервис Samsung Cloud вскоре прекратит поддерживать резервное копирование сторонних приложений: С 6 февраля Samsung Cloud перестанет сохранять копии стороннего ПО 20

В конце года может выйти смартфон Nokia, оснащённый модулем из пяти камер: Nokia может выпустить смартфон с камерой с пятью датчиками изображения 46

Смартфон Samsung Galaxy J8 (2018) будет более производительным, чем можно было бы подумать: Samsung Galaxy J8 (2018) может прийти на смену моделям Galaxy J76

LG 27UK650-W — 27-дюймовый монитор 4K с поддержкой HDR10 и стоимостью 550 долларов: LG оснастила монитор 27UK650-W панелью IPS разрешением 4K UHD19

OnePlus действительно нашла на своём сайте чужеродный скрипт. Под угрозой находятся данные о 40 000 платёжных картах: Скрипт на сайте OnePlus собрал данные максимум о 40 000 платёжных картах 5

Apple возглавила рейтинг самых почитаемых компаний Fortune: Второй год подряд следом за Apple идет Amazon51

Низкий спрос на ноутбуки вынуждает производителей металлических корпусов обратить внимание на электромобили: Помимо корпусов электродвигателей производители осваивают выпуск корпусов для различной электроники, применяемой в электромобилях8

В 2017 году чаще всего клонировали смартфоны Samsung : Apple заняла вторую позицию с результатом 7,72%20

«Доллар 2.0» — Наталья Касперская назвала Bitcoin разработкой ЦРУ: Некоторые аналитики считают, что уже в этом году курс Bitcoin может достигнуть 100 000 долларов87

Представлены 3D-камеры Intel RealSense D415 и D435: RealSense D415 и D435 доступны для предзаказа по цене 150 и 180 долларов соответственно2

iOS 11 серьёзно отстаёт от предшествующей версии по темпам распространения : iOS 11 заняла 65% рынка совместимых устройств 58

Защищенный смартфон Aermoo M2 получил сдвоенные камеры PureView Carl Zeiss: В основной сдвоенной камере используются датчики изображения разрешением 16 и 13 Мп6

Суммарный годовой доход магазина Apple AppStore в нынешнем году сравняется с мировыми кассовыми сборами кинотеатров: AppStore скоро достигнет отметки в 40 млрд долларов дохода14

iXBT TV

  • Apple отключит замедление iPhone, 10 лет MacBook Air, дрон спас человека

  • Обзор автомобиля Mercedes-Benz E 220 d 4Matic All-Terrain Luxury: полноприводный внедорожный универсал

  • Обзор складной гладильной системы MIE Maxima: утюг, отпариватель для одежды и гладильная доска

  • Обзор недорогого Full HD DLP-проектора BenQ W1050 для домашнего кинотеатра

  • Процессор Intel с графикой AMD, экраны любой формы и размера

  • Критическая уязвимость Intel, разбор Apple iMac Pro, Dell XPS 13 стал тоньше

  • Обзор компактной беспроводной колонки JBL Playlist с поддержкой Chromecast

  • Обзор игрового IPS-монитора LG 34UM69G с соотношением сторон 21:9

  • Обзор блока питания Aerocool P7-750W Platinum с гибридной системой охлаждения

  • Apple специально замедляет старые iPhone, VR-революция, крошечный телефон

  • Обзор широкоугольного объектива Canon EF 35 mm F1.4L II USM

  • Обзор робота-пылесоса Kitfort KT-516 со сменными уборочными блоками

Календарь

февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс