Пока ведущие игроки полупроводниковой промышленности критически оценивают возможности иммерсионной литографии (как нам известно, первой о включении иммерсионных технологий с свой роадмэп объявила в августе IBM), производитель DRAM компания Micron решилась на довольно смелый шаг: вместо перехода от использования 248-нм литографических инструментов к "сухим" 193-нм сканерам, компания сразу начнет внедрение иммерсионных 193-нм технологий.
Сегодня Micron использует преимущественно 248-нм оборудование производства голландской ASML, некоторая часть оборудования на заводе компании в Сингапуре была приобретена у Canon.
Свои 248-нм инструменты Micron собирается использовать вплоть до 90-нм норм, технически это возможно благодаря технологии фазосдвигающих масок (phase-shifting masks). Иммерсионные 193-нм сканеры Micron начнет применять для выпуска чипов по нормам 70 нм и менее, первые инструменты от ASML поступят в ее распоряжение в следующем году.