Работу над необычной технологией начала Lucent: компания должна будет по заказу DARPA (Defense Advanced Research Projects Agency) разработать способ изготовления полупроводниковых микросхем методами оптической литографии без использования фотомасок. Для этого, как сообщает источник, будут использованы микроэлектромеханические системы (MEMS), используемые в качестве рассевающих модуляторов света (SLM, spatial light modulators).
Вместе с Lucent над этой технологией будут трудиться Corning Tropel, DuPont Photomasks и Lincoln Laboratories. Исследовательская работа, ко всему прочему, будет происходить также в рамках партнерства с ASML.
По первым оценкам, технология MEMS SLM разработки Bell Labs, благодаря наличию микроскопических подвижных зеркал, будет способна создавать в 10 раз большее количество пикселей, чем современные литографические системы. По оценкам исследователей, это позволит создавать рисунки размером 50 нм.