Компания, занимающаяся анализом патентов и технологий, Semiconductor Insights (SI), сообщила, что основной чип игровой приставки Sony PlayStation X, Emotion Engine + Graphics Synthesizer, известный так же как EE+GS@90nm, на самом деле выполнен с использованием норм 0,13-мкм техпроцесса – несмотря на заявленные планы реализации чипа с использованием норм 0,09-мкм технологии, что, кстати, отражено даже в названии микросхемы.
Напомним, что в мае 2003 года Sony и Sony Computer Entertainment сообщили об интеграции Emotion Engine и Graphics Synthesizer с один чип (выполненный с использованием норм 0,09-мкм техпроцесса) с 53,5 млн. транзисторов; одновременно с этим было сделано сообщение, что микросхема запущена в серийное производство.
27 ноября 2003 года появились дополнения к пресс-релизу компании, в них упоминалось, что приставка будет представлена двумя версиями — PSX DESR-5000 и DESR-7000; обе модели, как отмечалось в таблице характеристик устройства, оснащены процессором, выполненным по 90-нм технологии. Как отметил Дерек Нан, вице-президент Semiconductor Insights, "производители оборудования, включая Sony, находятся под давлением рынка, требующего микросхем, выполненных по новым технологиям, но реальность такова, что многие компании не готовы предлагать такие решения".
Несоответствие техпроцессов заявленным было обнаружено специалистами Semiconductor Insights после того, как, выполняя все необходимые процедуры анализа, из DESR-5000 был вынут чип EE+GS@90nm с кристаллом площадью 90 мм², что и означало использование при производстве микросхемы по 0,13-мкм технологии, ведь, по данным Sony, площадь кристалла чипа, выполненного по 90-нм технологии должна была быть 86 мм². В последнее время, как отмечают аналитики, им все чаще приходится сталкиваться с подобного рода несоответствиями. "Остается отдать должное инженерам, сумевшим соблюсти заявленные размеры кристалла при использование старого техпроцесса".