Новые приятные и неприятные сюрпризы для будущего EUV-литографии получили огласку на международном симпозиуме по ультрафиолетовой литографии EUVL в Антверпене. В симпозиуме приняло участие около 350 экспертов из примерно 80 стран.
До 2009 года, когда EUV согласно утвержденным планам должна быть внедрена в коммерческую эксплуатацию, нужно решить шесть критических проблем: малая мощность и недолговечность источников ультрафиолетового излучения, искажающие фотомаски, искажение сеток при обработке чипов, недолговечность оптики, малая разрешающая способность фоторезиста.
Впрочем, первые опытные производственные линии вскоре должны будут установлены ASML, а Nikon и Canon подготовили несколько прототипов оптических систем. Так что посмотрим, что из всего этого получится через год, на следующем EUVL-симпозиуме.