Похоже, рановато пока списывать на пенсию 157-нм литографию, тем более что шансов проявиться себя ей пока даже и не досталось: STMicroelectronics подтвердила свою решимость использовать 157-нм литографические инструменты на своих заводах. Одновременно с этим компания собирается начать экспериментировать с электронно-лучевыми технологиями для производства небольших партий чипов по 65-нм нормам и менее.
В настоящее время компания использует 193-нм литографические инструменты в своих 0,12-мкм технологических процессах. Основным поставщиком оборудования для STMicroelectronics является голландский концерн ASML. Впрочем, STMicroelectronics также рассматривает возможность продления жизненного цикла 193-нм инструментов, которая выглядит привлекательной для многих производителей.
Но несмотря ни на что, STMicroelectronics настроена внедрять 157-нм литографию, посчитав целесообразным не ставить слишком много на иммерсионные и ультрафиолетовые (EUV) технологии. Итак, в лагере подвижников 157-нм остались: IBM, Infineon, Philips, TI и STMicroelectronics.
Напомним, что основной удар по 157-нм планам нанесла Intel в мае этого года, объявив, что исключает 157-нм инструменты из своих планов. Ранее, компания поддерживала разработку 157-нм литографии и выделила немало средств на ее развитие к моменту начала производства по 45-нм нормам в 2007 году. Теперь в планах Intel значится использование 193-нм инструментов в 90-нм, 65-нм и 45-нм процессах с использованием иммерсионных технологий, а для 32-нм норм компания собирается задействовать EUV.