Голландская ASM Lithography анонсировала выпуск 193 нм аргон-фторидного (argon-fluoride, ArF) экспозиционного инструмента. Новый литографический сканер AT:1100 может применяться для производства 200 мм - 300 мм кремниевых пластин с нормами производства до 100 нм (0,10 мкм).
Литографические линзы StarLith 1100 для нового инструмента поставил давний партнер ASML – немецкая компания Carl Zeiss. AT:1100 предназначен, в первую очередь, для производства современных чипов DRAM и логики, а также может применяться в процессе производства микропроцессоров с числом транзисторов более 75 млн.
ASML сообщила, что на новый инструмент AT:1100, поставки которого начнутся ближе к концу года, уже получены заявки от Infineon, Philips, Micron и TSMC.
Сейчас, во всем мире, насчитывается только четыре производителя такой техники: помимо ASML, японские компании Canon и Nikon, а также Silicon Valley Group (SVG), которая совсем недавно купила ASML за $1,6 млрд., но, тем не менее, продолжает разработку своей собственной линейки 193 нм сканеров.
Источник: Silicon Strategies