Итак, новые задержки: ASM Lithography, подразделение Silicon Valley Group, объявила в очередной раз об отодвинутой дате начала поставок своего 193 нм аргон-фторидного (ArF) литографического оборудования - теперь сроки отодвинуты уже на октябрь. Однако, на этот раз, Intel с честью парировала все домыслы о том, что такая задержка каким-либо образом отразится на графике поставок новых процессоров, выполненных с соблюдением 0,13 мкм технологического процесса.
Первые 0,13 мкм чипы Intel будут официально анонсированы уже 30 июля, но дело даже не в этом. Представители Intel заявили, что использование 193 нм литографического оборудования от SVG для 0,13 мкм технологического процесса не планируется, оно предназначено для использования в следующем поколении техпроцесса - уже для 100 нм (0,10 мкм) технологии!
Ввод нового 100 нм техпроцесса Intel, названного P1262, ожидается в 2003 году.
Источник: Silicon Strategies