Голландская компания ASML Holding NV сообщила о поставке первой литографической системы PAS 5500/800 KrF Deep UV Step and Scan с числовой апертурой (numerical aperture, NA) 0.80. Система имеет разрешение 120 нм и будет использоваться для производства 256 Мбит чипов DRAM и других продуктов памяти – SRAM, флэш-памяти и пр. Производительность платформы PAS 5500/800 – до 115 200 мм пластин в час. Система оборудована линзами StarLith 800 0.8 NA производства Carl Zeiss. В системе используется 20 ваттный фторид-криптоновый (KrF) лазер.
Условия сделки, а также заказчик системы, не сообщаются.
