Motorola объявила о выпуске первых в индустрии EUV фотошаблонов, предназначенных для выпуска чипов с соблюдением норм 0,10 мкм техпроцесса. Работы Motorola производятся в рамках проекта консорциума Extreme Ultraviolet LLC, в который входят Motorola, Intel, AMD, и другие компании.
По заявлению представителей Motorola, к началу 2002 года компанией будет разработана окончательная версия технологии работы со столь прецизионными фотошаблонами, которые на первых порах будут использоваться совместно с экспериментальной EUV альфа-установкой, о запуске которой мы писали 27 февраля.
Необычность сегодняшнего заявления Motorola еще и в том, что, по сообщению разработчиков компании, новые фотошаблоны сочетаются не только с EUV экспериментальными инструментами, но и с ныне применяемым в индустрии оборудованием, и были испытаны на стандартных 6-дюймовых подложках толщиной 0,25 дюйма. Использование новых фотошаблонов в сочетании с нынешним DUV оборудованием удешевит переход на новые нормы техпроцесса и сделает его последовательным.