ASML: 248 нм литография для 0,11 мкм техпроцесса!

ASM Lithography сообщила о выпуске нового 248 нм криптон-фторидного (krypton fluoride, KrF) сканера, способного обеспечить нормы 0,11 мкм (110 нм) техпроцесса при работе с 300 мм кремниевыми пластинами. Новый Twinscan AT:580B является первым 248 нм step-and-scan литографическим инструментом, способным обеспечить такой уровень разрешения, главным образом, благодаря применению новой проекционной оптики с высокой числовой апертурой для KrF систем.

Новый двухступенчатый (сканирование одной пластины в то время, как вторая экспонируется) сканер способен обрабатывать до 95 12-дюймовых (300 мм) пластин в час, что также является самым высоким показателем для 248 нм систем.

Система оборудована комплектом проекционной оптики Starlith 850 с NA равным 0.80 от давнего партнера ASML - компании Carl Zeiss. Помимо этого, оптика Starlith 850 теперь будет устанавливаться и на 200 мм сканерах ASML - PAS 5500/850B.

Первый сканер AT:850B, по словам представителей ASML, будет поставлен уже в декабре. Кому? Прозвучал лишь намек: "одному ведущему азиатскому потребителю".

Источник: Silicon Strategies

Автор:

Все новости за сегодня

Календарь

декабрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс