Две крупных японских корпорации: Matsushita Electric и Sharp вчера присоединились к консорциуму по разработке новых методов литографии с использованием электронного луча. В Японии вообще практически все разрабатывают технологии производства микросхем с помощью e-beam, однако этот консорциум - один из крупнейших. Называется он LEEPL (low-energy electron-beam proximity projection lithography), что в вольном переводе означает "ближнепроекционная электронно-лучевая литография c низким потреблением энергии". Кроме Sharp и Matsushita, вчера в консорциум вступила и Nippon Control Systems Corp., производитель систем обработки масок, и теперь число компаний в консорциуме стало равным 19.
LEEPL - это попытка взглянуть за пределы 70 нм литографии. С помощью этой технологии в принципе возможно создание микрочипов по 40-50 нм технологическим нормам. Кроме того, разработчики утверждают, что подобная система литографии не будет испытывать необходимости в сверхточных линзах и, следовательно, будет дешевле в производстве и эксплуатации.
К слову, консорциум был создан Tokyo Semitsu, LEEPL Corp и вездесущей Sony в июне прошлого года.
Не известно, когда будут готовы хотя бы прототипы LEEPL литографического оборудования, но Tokyo Semitsu уже заявляет, что в скором времени начнет строительство фабрики по производству подобного оборудования, способного выпускать по 30 единиц высокотехнологичного оборудования в месяц.
Столь оптимистический настрой, которым, впрочем, страдают все японские компании, дает основания надеяться, что LEEPL - действительно перспективная технология. Ведь кроме Sharp и Matsushita, из серьезных разработчиков чипов к консорциуму присоединились такие компании, как NEC, Rohm, Sony и Texas Instruments.
Источник: Silicon Strategies