ASML представит свое видение литографии на SPIE

На конференции по микролитографии SPIE (с 3-го по 8-е марта в г. Санта-Клара), голландская ASML собирается показать свои новые разработки в области EUV литографии.

ASML собирается показать, что такое литография "по-европейски" - соавторами доклада будут выступать компании Carl Zeiss, Sagem и Xenocs. Свою EUV-инициативу они назвали Extatic (theEXTreme Ultraviolet Alpha Tool Integration Consortium).

Целью совместного доклада на конференции будет показать, что европейская EUV-технология применима для <0,05 мкм процессов.

Немного противоречиво - ведь ASML должна стать "системным интегратором" для американского EUV-консорциума EUV LLC (Advanced Micro Devices, IBM, Infineon, Intel, Micron, Motorola, лаборатории Министерства Энергетики США). Думаю, что ASML на конференции прояснит эту ситуацию.

Напомним, что японские Nikon и Canon разрабатывают EUV оборудование самостоятельно. Nikon вместе с IBM также параллельно разрабатывает и электронно-проекционную литографию EPL.

Впрочем, на SPIE компании, так или иначе связанные с разработкой устройств литографии следующего поколения выступят и доложат о своих планах гораздо подробнее.

Автор:

| Источник: PC Watch

Все новости за сегодня

Календарь

февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс