SPIE: EPL литографический инструмент от IBM и Nikon

IBM и Nikon представили прототип EPL - инструмента (EPL - electron-beam projection lithography - литография, осуществляемая при помощи пучков электронов), способного в будущем создавать чипы с размером элемента 60 и 50 нм (0,05 и 0,06 мкм). Оптику для устройства, названного EB Stepper, изготавливает IBM, а Nikon занимается сборкой и отладкой системы.

EB Stepper был объявлен Nikon в прошлом году для разработки 70 нм техпроцессов. Планируется, что компания начнет поставки устройства к концу 2004 г. В IBM говорят, что теперь EPL уже не является лишь плодом фантазии разработчиков, став реальностью. На SPIE компания довольно подробно рассказала об оптической системе для EB Stepper, названной Prevail. Система формирует четкие изображения элементов размером от 80 до 60 нм. В IBM уверяют, что Prevail способна создавать изображения элементов вплоть до 50 нм.

Alpha-версия установки EB Stepper собрана в Японии, на одном из предприятий Nikon. Компания планирует начать промышленный выпуск подобных установок в 2007 году.

Автор:

| Источник: PC Watch

Все новости за сегодня

Календарь

март
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс