Несмотря на задержки с разработкой, 157 нм оборудование все же таки появится на рынке литографических инструментов. Такую надежду вселяют представленные на конференции SPIE Microlithography роадмэпы ведущих производителей литографических инструментов, в которых, значится 65 нм (0,065 мкм) техпроцесс к 2005 - 2006 годам.
157 нм сканеры были объявлены еще несколько лет назад, начало массовых поставок ожидалось в 2002 или 2003 году, но из-за технических проблем, обнаруженных при разработке 157 нм литографии, вендоры были вынуждены отложить начало поставок на 2004 - 2005 годы.
Одной из главных трудностей, вставшей перед 157 нм технологией, стало двойное лучепреломление во фториде кальция (CaF2), из которого изготавливаются линзы. Помимо этого, материала для изготовления качественных линз и фоторезиста сейчас явно недостаточно, что вряд ли способствует скорому началу поставок 157 нм сканеров. Имеются также прогнозы, что когда сканеры все же выйдут, то их стоимость "зашкалит" за $25 млн.
В это же время "большая тройка" изготовителей литографических инструментов: ASML, Canon и Nikon утверждает, что успешно преодолела стоящие перед ними трудности. Nikon планирует начать поставки 157 нм инструмента, который будет способен создавать чипы с размером элемента 65 нм при помощи двоичных фотошаблонов, и чипы с размером элемента 55 и 35 нм при помощи фазосдвигающих масок. Компания собирается начать поставки где-то во второй половине 2004 г.
Canon, в свою очередь, разрабатывает FS1, 157 нм сканер для обработки чипов с размером элемента 65 нм и меньше. Как и в инструменте Nikon, в сканере используется зеркально-оптический (или катадиоптрический) объектив, сводящий на нет негативный эффект двойного лучепреломления. Canon планирует начать поставки в конце 2004 или начале 2005 года.
ASML, в свою очередь, старается не отстать от японцев, разрабатывая 157 нм инструмент Micrascan VII. AMSL не сообщила, когда планирует начало поставок, но есть мнение, что поставки Micrascan VII также начнутся не раньше конца 2004 - начала 2005.