Tower запустила 0,18 мкм техпроцесс

Tower Semiconductor объявила об успешном запуске пилотной линии по производству 200 мм кремниевых пластин с использованием норм 0,18 мкм техпроцесса на новой фабрике Fab 2 в Мигдаль Хаемек (Migdal Ha'emek), Израиль.

По заявлению руководства компании, объемы выхода пластин "выше, чем ожидавшиеся". Правда, точные цифры пока не называются.

Двумя месяцами раньше мы уже писали о том, что Tower объявила о завершении установки на Fab 2 оборудования пилотной 0,18 мкм CMOS линии по технологии, лицензированной у Toshiba.

Ожидается, что на момент полного запуска, Fab 2 будет выпускать до 33 тыс 8-дюймовых пластин в месяц с нормами 0,18 мкм и менее. На фабрике будет занято до 1100 работников. Полный запуск производства на Fab 2 ожидается ближе к концу 2002 года.

Источник: Jerusalem Post

Автор:

Все новости за сегодня

Календарь

март
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс