Как мы сообщали на прошлой неделе, к японскому альянсу Leepl Consortium, ведущему разработку литографических инструментов следующего поколения - Low Energy E-beam Proximity Projection Lithography (LEEPL), присоединились еще несколько новых членов.
Правда, по уточненным данным, их оказалось не трое, а пятеро. Ими стали компании Hitachi, Mitsubishi Electric, Seiko Epson, Joel (Tokyo) и NaWoTec (Германия).
В настоящее время число участников Leepl Consortium, учрежденного в июне 2001 года, доведено до 24. Вот список остальных членов альянса: Matsushita Electric, NEC, Rohm, Sharp, Sony, Texas Instruments, Dai Nippon Printing, Hoya, NTT Advanced Technology, Toppan Printing, Fiji Film Arch, JSR, Shin-Etsu Chemical, Shipley Far East, Tokyo Ohka Kogyo, Leepl, Tokyo Seimitsu, Toshiba Machine и Nippon Control System.