1,5-кВт лазер для EUV-литографии: проблема с источниками излучения частично решена

Мы уже рассказывали о проблемах с мощными источниками излучения в ультрафиолетовой литографии (EUV). Частично эту проблему позволяет решить новый лазер компании CEO (Cutting Edge Optronics) мощностью 1,5 кВт, который можно будет использовать для генерации плазмы в ультрафиолетовой литографии.

В СЕО говорят, что в источнике ELPS-600 будет использовано три таких лазера, мощность которых в сумме равна 4,5 кВт. При этом выход источника не превышает 25 Вт, однако в компании радуются уже и этому, говоря, что все-таки это некоторый прорыв в EUV.

Автор:

| Источник: ExtremeTech

Все новости за сегодня

Календарь

апрель
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс