Японский правительственный промышленный консорциум, разрабатывающий пилотную 90-нм производственную линию, одобрил бюджет в $243 млн. на разработку проекта под кодовым названием Asuka.
Руководитель NEC Хаджиме Сасаки (Hajime Sasaki) сообщил, что таким образом определяется потолок бюджета для проекта, в котором участвует 11 компаний. Конечной целью этого проекта ставится переоснастить заводы так, чтобы минимизировать затраты на производство. В этом месяце среди заводов компаний-участников будет выбрана производственная линия, которую переоснастят уже в этом году, а в 2003 году пилотная линия будет полностью работоспособна.
В проекте Asuka участвует министерство экономики, торговли и промышленности Японии и 11 компаний, среди которых Fujitsu, Hitachi, Matsushita, Mitsubishi, NEC, Oki, Rohm, Sanyo, Sharp, Sony и Toshiba. С прошлого года компании вели совместные разработки 90-нм технологического процесса в научно-исследовательском центре Цукуба (Tsukuba), созданном другим консорциумом, Selete (Semiconductor Leading Edge Technology).
Пилотная линия проекта будет использовать 300-мм пластины и будет территориально находиться в Токио. Уже определились четыре основных кандидата: заводы Tricenti и Sagamihara компании Hitachi, научно-исследовательский центр Akiruno компании Fujitsu и научно-исследовательский центр VLSI компании Toshiba.
При этом завод Tricenti уже оборудован всем необходимым для обработки 300-мм пластин. Однако не так давно Hitachi сообщала о том, что собирается задействовать все производственные мощности для своих нужд.
В свою очередь, еще в прошлом месяце Fujitsu сообщала о том, что в центре Akiruno уже удалось получить элементы размером 90 нм на тестовых пластинах. Если будет выбран именно этот научно-исследовательский центр, то на его базе соберут пилотную линию для 300-мм пластин.