По окончании ежегодной встречи с экспертами Sematech сообщила СМИ о том, что 157-нм литография появится уже в ближайшем будущем. Это внушает определенный оптимизм компании насчет перспектив 157-нм литографии.
На прошедшей неделе в Далласе встретились около 140 представителей различных компаний-производителей полупроводниковых устройств и материалов. Основной проблемой, которая стояла до сих пор перед Sematech, было внутреннее двойное лучепреломление в кристаллах <111> и <100>. В прошлом году Sematech провела совместно с Национальным Институтом Стандартизации Технологии США количественное исследование двулучепреломления во фториде кальция (CaF2), который, в основном, и используется для изготовления линз.
Таким образом, первым шагом на пути преодоления этой проблемы было создание отожженных <111> кристаллов, удовлетворяющих требованиям гомогенности и двулучепреломления при приложенном механическом напряжении. Кроме этого, Sematech говорит, что за последние месяцы был достигнут значительный прогресс в снижении эффекта двойного лучепреломления в <100> кристаллах.
Следующим шагом на пути к 157-нм литографии станет решение проблем с мягкой оболочкой фотомасок. Пока что процесс подбора полимеров, подходящих по прозрачности, идет медленно. Возможно, что для фотомасок будут использованы более твердые материалы, нежели те, что используются сейчас.
Так или иначе, в Sematech уверены, что 157-нм литография скоро будет готова, что называется, к массовому использованию. Правда, к тому моменту размер элементов полупроводниковых чипов уменьшится уже до 0,065 мкм.