Intel готовит фотомаски для 65-нм и 32-нм техпроцессов

Несмотря на то, что уже выпущено немало публикаций, предупреждающих о резком росте стоимости фотомасок, Intel сообщила о продолжении выпуска собственных фотомасок. По словам компании, это необходимо для того, чтобы не быть зависимой от других фирм и обладать возможностью запуска производства по новым технологическим нормам каждые два года.

Одновременно с этим, Intel анонсировала начало выпуска фотомасок для 65-нм процесса. Сообщается, что уже в этом квартале компания будут доступны фотомаски, которые возможно будет использовать в производстве. Хотя до самого производства, начало которого назначено на 2005 год, еще довольно далеко.

Параллельно Intel произвела образцы следующего поколения фотомасок, для 32-нм процесса, которые предназначены для ультрафиолетовой литографии (EUV). Планируется, что производство по EUV-технологии начнется в 2007 году.

16 января 2003 в 13:47

Автор:

| Источник: Parasound

Все новости за сегодня

Календарь

январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс