Motorola опубликовала на этой неделе детали своей технологии импринт-литографии, утверждая, что может создавать чипы с размером элемента 30 нм. Компания использовала продукт разработки техасской компании MII (Molecular Imprints Inc.).
Рассказывая о достигнутом на конференции SPIE Microlithography, представитель Motorola продемонстрировала шаблон, с помощью которого удалось наносить рисунок на поверхность полупроводника с элементами размером 30-100 нм. В компании уверены в том, что импринт-литографию ждет большое будущее и не разделяют мнения, что дефекты и неточности выравнивания слоев играют решающую роль в прогрессе (а точнее, в его отсутствии) импринт-литографии. С точки зрения Motorola, прохладное отношение промышленников к этой, в сущности, не новой технологии обусловлено нежеланием связываться с изготовлением специальных фотомасок и применением фоторезиста.