В прошлую пятницу корпорация Intel сообщила о принятии решение исключить использование 157-нм литографических инструментов из своего роадмэпа. Решение компании подняло целую бурю протестов и возмущения, отчасти из-за того, что именно Intel в свое время стимулировала многих инвестировать в разработку 157-нм инструментов.
Свое мнение высказал Аллен Боулинг из Texas Instruments: «мы согласны с тем, что многие промышленники скорее всего пожелают продлить жизненный цикл своих 193-нм инструментов вплоть до 45-нм норм, исходя из экономической целесообразности. В то же время мы не разделяем скептицизма Intel по поводу перспектив применения 157-нм сканеров, ведь в свое время и 193-нм литографии пророчили применимость только к одним нормам, однако размер элемента с тех пор уменьшился на порядок». По мнению Боулинга, Intel поступает рискованно, «преждевременно сложив все яйца в одну дорогую корзину», считая, что вряд ли EUV-литография будет готова для 32-нм норм ранее 2009 года, в то время как Intel планирует начать производство уже к 2007 году.
И в том, и в другом случае, потребуются значительные усовершенствования: улучшение оптики для 193-нм оборудования, отработка технологий EUV. Как считают в Motorola, для промышленников, конечно же, более привлекательно выглядит проверенная технология, каковой 157-нм литографию назвать, увы, нельзя. Таким образом в Motorola разделяют мнение, что промышленникам будет легче работать с 193-нм. Аналогичные соображения высказали и в TSMC, не скрывая своей радости по поводу того, что 193-нм инструменты будут использоваться еще длительное время.
В этой ситуации хуже всех придется разработчикам сканеров и степперов. Компании уже потратили не один год на разработку весьма дорогостоящих проектов, и теперь в одночасье лишись своего крупнейшего клиента, который наверняка утянет и многих других. Впрочем, у разработчиков и производителей литографических инструментов осталась надежда на иммерсионную литографию, то есть литографию при погружении в жидкость, позволяющую продлить жизненный цикл литографических инструментов еще больше. При этом, если 193-нм сканеры смогут работать в областях, где ранее предполагалось использование 157-нм литографии, то 157-нм литография сможет конкурировать с EUV, по крайней мере, вплоть до 22 нм. Так что спор о том, что предпочесть для норм менее 45 нм еще не завершен.