Помните, некоторое время назад Intel объявила о своем отказе от использования 157-нм литографических инструментов на 45-нм нормах, сочтя переоснащение своих производственных мощностей неоправданно дорогим и рискованным шагом (рискованным в связи с недостаточно долгим сроком использованием 157-нм литографии в производстве). Этот шаг компании вызвал очень бурную реакцию – партнеры компании (Nikon и ASML, вложившие немало средств в разработку 157-нм технологий) были недовольны столь неожиданным поворотом судьбы, а другие игроки рынка принялись обсуждать перспективы. В компании решили немного успокоить партнеров, сообщив, что «открыты для рассмотрения разных технологий для применения в 32-нм технологических процессах». Среди тех технологий, что рассматриваются Intel, перечисляются 193-нм иммерсионная литография, 157-нм литография и EUV (жесткий ультрафиолет).
Много вопросов до сих пор остаются без ответа и, в частности, нет гарантии, что EUV-инструменты будут готовы в срок. За прошедшие 10 лет Intel была основным инициатором разработки технологий EUV, однако немало средств было затрачено и на 157-нм литографию.