Как сообщают исследователи из Кембриджского Университета, им удалось освоить технику изготовления квантово-электронных устройств с использованием атомно-силового микроскопа (AFM). Техника получила название обратимой электростатической литографии (EEL, erasable electrostatic lithography, R Crook et al. 2003 Nature 424 751).
Атомно-силовой микроскоп был использован для создания локальных зарядовых неоднородностей атомарного размера на поверхности пластины из арсенида галлия. Для этого игла микроскопа была заряжена до –6 В, из-за чего в близости к игле наводился положительный заряд, а избыток электронов компенсировался расположенным ниже слоем алюминия. Таким образом, при надлежащей точности позиционирования иглы AFM и низкой температуре (все манипуляции проводились при 20 мК) можно создавать рисунок, схожий с литографическим рисунком на полупроводниковом чипе. Стирать рисунок можно проведением иглы с потенциалом +3 В или освещением пластины красным светом.
Научившись создавать наноструктуры, исследователи из Кембриджа собираются исследовать такие их свойства, как время декогерентизации квантовых состояний. Возможно, что на базе подобных исследований когда-нибудь можно будет говорить о создании квантовых чипов, считают они.