Chartered Semiconductor вступила в технологическую гонку за первенство в области 90-нм процессов, анонсировав технологию выпуска систем-на-чипе (SOC) и иных сложных микросхем по 90-нм нормам.
Процесс Chartered, названный ею NanoAccess, в целом идентичен 90-нм технологии IBM, что является следствием прошлогоднего соглашения IBM и Chartered по разработке 90-нм и 65-нм технологий. Свое объявление компания подкрепила распространив руководство по разработке 90-нм прототипов, хотя первые квалификационные испытания намечены лишь на первый квартал следующего года, а испытания многоцелевых полупроводниковых пластин (multi-project wafer, MPW) начнутся лишь в следующем месяце. Известно, что 90-нм фотомаски для Chartered изготавливает японская фирма Dai Nippon Printing.