Компания Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) рассчитывает представить Reference Flow 10.0 для 28-нанометрового техпроцесса на мероприятии Design Automation Conference (DAC), которое пройдет в июле 2009 года. Ожидается, что ведущий мировой контрактный производитель полупроводниковых чипов освоит техпроцесс с соблюдением норм 28 нм в соответствии с графиком.
В сентябре прошлого года TSMC пообещала, что заказчикам будет предложено два варианта 28-нанометровой технологии: один — с использованием материалов с высокой диэлектрической проницаемостью и металлических затворов (HKMG), а второй — с использованием оксинитрида кремния (SiON). На этап массового производства эта технология должна выйти в первом квартале 2010 года.
Недавно производитель развернул выпуск продукции по 40-нанометровому техпроцессу, которому соответствует текущая версия инфраструктуры разработчика Reference Flow 9.0. По оценке отраслевых источников, выпуск продукции по нормам 40 нм обеспечит 8-10% суммарного дохода TSMC в нынешнем году, а ко второму кварталу 2010 ее доля составит 15-20%.
Основными заказчиками TSMC, использующими 40-нанометровый техпроцесс, являются поставщики GPU, FPGA и чипсетов для сотовых телефонов. В частности, новый GPU NVIDIA, известный под кодовым обозначением GT300, TSMC будет изготавливать по нормам 40 нм. В будущих продуктах NVIDIA рассчитывает использовать 28-нанометровый техпроцесс, разрабатываемый TSMC.
Источник: DigiTimes