Корпорация Toshiba объявила о готовности технологической платформы, в которой используется техпроцесс CMOS с соблюдением норм 40 нм. Новый техпроцесс стал развитием технологии, предусматривающей применение норм 45 нм, которую Toshiba создала совместно с NEC Electronics.
Новая технологическая платформа ориентирована на выпуск однокристальных систем для мобильных приложений, где критически важным является пониженное энергопотребление. По сравнению с микросхемами, выпущенными по нормам 65 нм, новые продукты потребляют вдвое меньше электроэнергии.
По словам Toshiba, первые образцы продукции, изготовленной с применением нового техпроцесса, появятся до конца четвертого квартала 2008 финансового года. Массовый выпуск должен начаться во втором квартале 2009 финансового года.
Источник: Toshiba