Лента новостей [ В виде списка ]

Отмена Tejas: скрытые подробности…

Думаю, все помнят весеннюю историю с исключением процессорных ядер Tejas и Jayhawk из роадмэпов Intel. Как тогда официально сообщила компания, это было сделано для того, чтобы сконцентрировать свое внимание на разработке двухъядерных процессоров, на тему которых, впрочем, что Intel, что AMD изрядно упражняются в риторике, хотя до дела, скорее всего, еще очень далеко. Тем временем, всезнающий Inquirer полагает, что знает, зачем Intel нужно было выбросить Tejas, до анонса которого оставались считанные недели и уже была неофициальная информация о его характеристиках, в мусорную корзину. Версия источника вовсе даже не расходится с официальной версией, но содержит некоторые любопытные соображение.

Inquirer отмечает, что такому гиганту, как Intel, приходится тщательно продумывать процессорные архитектуры, которые будут внедряться в течение ближайших нескольких лет. И главное тут не столько производительность, сколько надежность и возможность масштабирования: поскольку компания производит миллионы процессоров ежемесячно, необходимо заботиться о себестоимости каждого, чтобы не прогореть на производстве. Чем меньше нормы техпроцесса, тем меньше себестоимость чипа и выше доход. Несмотря на то, что переход на 90-нм ядро Prescott прошел отнюдь не гладко – с этими процессорами наблюдались технические проблемы, правда, не настолько серьезные, чтобы отзывать эти процессоры из продажи, однако, как и в случае с Dothan, задержка с его выходом на рынок была связана не с производственными проблемами, а с дизайном чипа, не «захотевшим» сразу масштабироваться в 90-нм нормы.

По всей видимости, делает вывод источник, для Prescott и Dothan удалось выработать дизайн, который можно будет масштабировать и для 65-нм норм, в то время как Tejas, 90-нм ядро, долгое время нельзя было выпускать на рынок из-за недоработок дизайна, что автоматически означает дополнительные трудности при его масштабировании для 65-норм – это влечет за собой более высокую себестоимость производства процессоров на этих ядрах, скажем, через два-три года, когда ожидается начало массового производства микросхем по 65-нм нормам.

Возникает логичный вопрос: а что же будет дальше, после 65-нм норм? Отмена Tejas показала, что это должен был быть нишевый продукт: заняв определенную рыночную нишу при выпуске процессоров по 90-нм нормам, он должен был бы пережить эпоху 65-нм норм и лишь потом уступить свое место будущему поколению процессоров Intel – пресловутым двухъядерным чипам. Таким образом, глядя на серьезные намерения AMD выпустить на рынок многоядерный процессор быстрее конкурента, Intel приняла решение не тратить время и силы на нишевый продукт, ускорив переход на новое поколение процессоров – риск, безусловно, значительный (а вдруг технические проблемы опять замучают?). Оправдан ли этот риск, еще предстоит узнать.

GeForce NX6600GT и NX6600: два новых адаптера MSI

Своим пресс-релизом компания MSI объявила графические адаптеры MSI GeForce NX6600GT и NX6600, построенные на базе графических процессоров NVIDIA GeFORCE 6600 с поддержкой интерфейсам PCI Express.





По традиции компании, в новых графических адаптерах MSI уделено много внимания возможностям разгона: доступна технология Dynamic EXPRESS Overclocking путем изменения тактовой частоты графического процессора и видеопамяти, имеющая шесть уровней настройки: Commander, General, Colonel, Captain, Sergeant и Private. В MSI GeForce NX6600GT и NX6600 также поддерживается Multi-GPU (работа нескольких адаптеров в режиме SLI, scalable link interface), использованы кулеры T.O.P, обладающие заявленным уровнем шума в 28 дБ.

193-нм литография в массовом производстве – с 2007 года

Поскольку на пути иммерсионной литографии заметных преград не наблюдается, International Sematech полагает, что ее внедрение в массовое производство начинется с 2007 года – таким образом, признается безоговорочное торжество 193-нм иммерсионных технологий на 157-нм литографией.

По мнению присутствовавших на международном симпозиуме по иммерсионной и 157-нм литографии, за прошедшее с начала активного исследования и разработки иммерсионных технологий время произошло множество позитивных изменений – разработаны фоторезисты, оптика и фотомаски. В 2007 году иммерсионная литография должна будет начать применяться для выпуска полупроводниковых микросхем с соблюдением норм 65 нм.

Тем временем ASML, Nikon и Canon обещают начать продавать коммерческое 193-нм иммерсионное оборудование первого поколения лишь в 2005 году. Затем, в 2006 году, на рынок начнет поступать оборудование второго поколения, надо полагать, с улучшенными показателями числовой апертуры.

Календарь

август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31