Китай приблизился к собственной EUV-литографии: бывший сотрудник ASML помог в разработке ключевых элементов

Китай продолжает сокращать технологическое отставание в области производства полупроводников. Как сообщает профильное издание, команда исследователей под руководством бывшего сотрудника ASML Holding добилась заметного прогресса в создании одного из ключевых компонентов EUV-литографических установок — источника экстремального ультрафиолетового излучения.

Речь идёт о так называемом EUV-источнике света — критически важной части оборудования, без которой невозможно производство современных чипов по передовым техпроцессам. Именно такие машины сегодня используются крупнейшими производителями микросхем, позволяя формировать элементы на уровне нескольких нанометров. При этом ASML Holding фактически остаётся монополистом в сегменте EUV-литографии, поставляя оборудование ведущим фабрикам по всему миру.

Согласно опубликованным данным, китайским исследователям удалось создать экспериментальный EUV-источник с коэффициентом преобразования энергии около 3,4%. Это показатель, характеризующий эффективность преобразования лазерной энергии в полезное излучение. Для лабораторной установки результат считается высоким и в ряде случаев превосходит показатели, достигнутые ранее в западных научных центрах.

Однако до промышленного уровня ещё далеко. Мощность китайского источника оценивается примерно в 100-150 Вт, тогда как современные коммерческие системы ASML Holding обеспечивают порядка 600 Вт и более. Это напрямую влияет на производительность: чем выше мощность источника, тем больше пластин можно обработать за единицу времени.

Отмечается, что ключевую роль в проекте сыграл бывший специалист ASML, ранее занимавшийся разработкой световых систем. Его опыт оказался критически важным для продвижения исследований. Подобная практика не является уникальной: Китай активно привлекает инженеров и учёных с опытом работы в западных технологических компаниях, что позволяет ускорять развитие собственных решений.

Тем не менее, даже успешное создание источника EUV-излучения — лишь часть задачи. Полноценная литографическая система включает в себя десятки высокоточных компонентов: зеркала с атомарной точностью, системы позиционирования, программное обеспечение и сложные алгоритмы управления. Все эти элементы должны работать синхронно на предельных уровнях точности.

В последние годы Китай активно инвестирует в развитие собственной полупроводниковой экосистемы, стремясь снизить зависимость от зарубежных поставщиков оборудования. Это особенно актуально на фоне экспортных ограничений, введённых США и их союзниками, которые ограничивают доступ китайских компаний к передовым технологиям.

Эксперты сходятся во мнении, что, несмотря на достигнутый прогресс, отставание от лидеров отрасли остаётся значительным. По оценкам, даже при ускоренных темпах разработки Китаю потребуется ещё несколько лет, чтобы приблизиться к коммерчески пригодным EUV-решениям. Тем не менее, сам факт подобных достижений показывает, что технологическая гонка в полупроводниковой отрасли выходит на новый уровень. И если ранее создание EUV-литографии считалось практически недостижимой задачей для новых игроков, то теперь ситуация постепенно начинает меняться.

Источник: Newsbit