Главная » Новости » 2013 » 04 » 24 24 апреля 2013

Компания Molecular Imprints отгрузила первый модуль для импринт-литографии по нормам менее 20 нм

Компания Molecular Imprints, чье оборудование позволит ускорить переход полупроводниковой отрасли к 450-миллиметровым пластинам, объявила об отгрузке первого из трех передовых модулей для импринт-литографии, поставка которых намечена на текущий квартал. Эти модули будут интегрированы в степперы партнеров компании.

Напомним, в основе импринт-литографии лежит использование штампа с нанорельефом, который выполняет ту же функцию, что и шаблон в контактной оптической литографии. Нанорельеф, получаемый на поверхности штампа с применением электронной литографии и анизотропного плазмохимического травления, используется для формирования маски из слоя полимера на поверхности полупроводниковой подложки.

В текущем квартале Molecular Imprints планирует отправить партнерам три модуля для импринт-литографии по нормам менее 20 нм

В модулях, о которых идет речь, реализована фирменная технология Jet and Flash Imprint Lithography (J-FIL), которая, как утверждается, позволяет получить производительность, необходимую для серийного производства полупроводниковой продукции (конкретно речь идет о чипах памяти) по нормам менее 20 нм. Более того, по словам Molecular Imprints, использование технологии J-FIL дает возможность изготавливать за один шаг 10-нанометровые структуры.

Источник: Molecular Imprints

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
апрель
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2013

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.