Японская компания Gigaphoton, специализирующаяся на выпуске источников света для фотолитографии, объявила о доступности для заказов эксимерного аргон-фторидного (ArF) лазера Gigaphoton GT64A. По словам производителя, этот лазер подходит для фотолитографии с использованием 450-миллиметровых пластин.
Унаследовав у своих предшественников двухкамерную архитектуру и проверенные технологии управления выходной мощностью и выравнивания луча, новый лазер отличается повышенной мощностью и стабильностью, а также максимальными по отрасли показателями надежности и срока службы.
Лазер имеет чрезвычайно высокую эффективность, а его мощность достигает 120 Вт. Выходная мощность может автоматически подстраиваться на оптимальный уровень световой энергии с учетом особенностей конкретного техпроцесса.
В числе достоинств лазера — высокая стабильность энергетических и спектральных характеристики и характеристик луча, в сочетании с импульсами увеличенной длительности позволяющая повысить точность работы и улучшить качество краев, что чрезвычайно важно для литографии с многократным формированием структур.
Производитель также отмечает снижение эксплуатационных затрат, связанных с энергопитанием и охлаждением, до «самого низкого возможного уровня».
Подробная информация о новом лазере Gigaphoton будет представлена на мероприятии SPIE Advanced Lithography 2013, которое пройдет с 24 по 28 февраля в Сан-Хосе, Калифорния.
Источник: Gigaphoton