Главная » Новости » 2011 » 03 » 03 3 марта 2011

Globalfoundries рассматривает возможность использования безмасочной технологии при переходе к нормам менее 20 нм

Производители полупроводниковой продукции продолжают осваивать более тонкие нормы техпроцесса, приближаясь к моменту, когда придется выбрать новую технологию литографии.

Компании по-разному выстраивают свою стратегию. В частности, Globalfoundries предлагает единственный вариант 28-нанометрового техпроцесса — с использованием диэлектриков с высокой диэлектрической постоянной и металлическими затворами (high-k/metal-gate). Основной конкурент, TSMC, предлагает как этот вариант, так и вариант с затворами из поликристаллического кремния. Кроме того, TSMC настойчиво стремится к использованию 450-миллиметровых пластин, тогда как Globalfoundries и другие участники альянса во главе с IBM не спешат с переходом на пластины большего диаметра.

Globalfoundries высоко оценивает потенциал EUV и недавно стала проявлять больший интерес к безмасочной литографии. В свою очередь, TSMC делает ставку именно на отказ от масок, но не списывает со счетов и EUV. Партнером TSMC по поставке оборудования выступает ASML Holding NV. Globalfoundries работает сразу с двумя поставщиками — ASML и Nikon. В прошлом году у ASML было заказано серийное оборудование для EUV.

Начиная с 45-нанометрового техпроцесса, Globalfoundries применяет иммерсионную литографию с длиной волны 193 нм. По мнению компании, эта технология позволит дойти, по крайней мере, до норм 20 нм. На этапе 20 нм Globalfoundries планирует предложить заказчикам два варианта техпроцесса: EUV и иммерсионный, с длиной волны источника 193 нм и двойными шаблонами. Ожидается, что EUV будет дешевле, но пока эта технология далека от серийного производства.

Компания рассчитывает установить оборудование для EUV, заказанное у ASML, во второй половине 2012 года. Тогда же начнется пилотное производство, к 2013 году будут приняты первые заказы на выпуск по нормам 22 и 20 нм, а к 2014 или 2015 году компания надеется использовать EUV в массовом производстве.

С какой технологией будет связано дальнейшее продвижение в микромир, пока неясно. Известно лишь, что компания рассматривает возможности безмасочной литографии. Сейчас эту технология считают перспективной для выпуска небольших партий продукции и изготовления заказных больших интегральных схем.

Источник: EE Times

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



март
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2011

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.