Выступая на мероприятии SEMICON West, Грег Бартлет (Gregg Bartlett), старший вице-президент GLOBALFOUNDRIES по технологии и научно-исследовательской работе, рассказал о планах компании, касающихся литографии с применением источников жесткого ультрафиолетового излучения (EUV). GLOBALFOUNDRIES рассчитывает стать лидером в применении этой технологии в массовом производстве.
«Наша стратегия заключается в том, чтобы миновать этап использования оборудования для предсерийного производства и перейти сразу к закупкам оборудования серийного уровня, предназначенного для установки на Fab 8 — нашей новой фабрике, возводимой сейчас на севере штата Нью-Йорк, — сказал Бартлет. — Мы планируем установить это оборудование во второй половине 2012 года, чтобы мы смогли немедленно начать работы с целью начать массовое производство в 2014-2015 годах».
По мнению Бартлета, опыт компании в применении в серийном производстве иммерсионной литографии позволит GLOBALFOUNDRIES стать технологическим лидером при переходе отрасли к EUV-литографии. Иммерсионная литография применима и при нормах 22-20 нм, но это сопряжено с «серьезными затратами и дополнительной сложностью», так что в компании решили пойти другим путем. Наиболее перспективным направлением считается EUV.
Вот почему GLOBALFOUNDRIES щедро инвестировала в коллективную разработку EUV в течение многих лет. Компания (тогда это была AMD) выступила одним из основателей консорциума разработчиков EUV LLC, наряду с Intel, Motorola, Micron Technology, Infineon и IBM.
Источник: techPowerUp!