Главная » Новости » 2010 » 07 » 19 19 июля 2010

GLOBALFOUNDRIES рассчитывает на лидерство в применении EUV-литографии

Выступая на мероприятии SEMICON West, Грег Бартлет (Gregg Bartlett), старший вице-президент GLOBALFOUNDRIES по технологии и научно-исследовательской работе, рассказал о планах компании, касающихся литографии с применением источников жесткого ультрафиолетового излучения (EUV). GLOBALFOUNDRIES рассчитывает стать лидером в применении этой технологии в массовом производстве.

«Наша стратегия заключается в том, чтобы миновать этап использования оборудования для предсерийного производства и перейти сразу к закупкам оборудования серийного уровня, предназначенного для установки на Fab 8 — нашей новой фабрике, возводимой сейчас на севере штата Нью-Йорк, — сказал Бартлет. — Мы планируем установить это оборудование во второй половине 2012 года, чтобы мы смогли немедленно начать работы с целью начать массовое производство в 2014-2015 годах».

По мнению Бартлета, опыт компании в применении в серийном производстве иммерсионной литографии позволит GLOBALFOUNDRIES стать технологическим лидером при переходе отрасли к EUV-литографии. Иммерсионная литография применима и при нормах 22-20 нм, но это сопряжено с «серьезными затратами и дополнительной сложностью», так что в компании решили пойти другим путем. Наиболее перспективным направлением считается EUV.

Вот почему GLOBALFOUNDRIES щедро инвестировала в коллективную разработку EUV в течение многих лет. Компания (тогда это была AMD) выступила одним из основателей консорциума разработчиков EUV LLC, наряду с Intel, Motorola, Micron Technology, Infineon и IBM.

Источник: techPowerUp!

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31
2010

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.