Главная » Новости » 2010 » 04 » 25 25 апреля 2010

В IBM придумали альтернативу электроннолучевой литографии

Специалисты исследовательского подразделения компании IBM продемонстрировали технологию, с помощью которой они могут формировать объемные структуры на атомном уровне. По словам исследователей, новый метод превосходит электроннолучевую литографию по скорости и разрешению, будучи более экономичным. В демонстрационных целях ученые изготовили карту Земли размерами 22 x 11 мкм и объемную модель горы Маттерхорн (4478 м) высотой 25 мкм.

На создание микроскопического изображения было затрачено менее трех минут. Инструментом выступил кремниевый щуп, подобный тем, которые используются в сканирующем атомно-силовом микроскопе. Длина щупа равна 500 нанометров, а ширина кончика — всего лишь несколько нанометров. Ученые закрепили наконечник на гибкой консоли, способной сканировать любую поверхность с точностью до одного нанометра.

В компании намерены использовать разработку для формирования структур при создании прототипов электронных схем, рассчитанных на изготовление по технологии CMOS, оптических компонентов, шаблонов для самосборки наноструктур.

Работа установки напоминает работу фрезерного станка: за счет нагрева и механического усилия, щуп гравирует поверхность подложки. Модулируя температуру и силу, исследователи получили возможность слой за слоем отсекать ненужные части поверхности, подобно тому, как это делает скульптор.

Достигнутое на данный момент разрешение составляет 15 нм. Это вдвое выше, чем уровень, достигнутый в полупроводниковом производстве с применением электроннолучевой литографии.

Источник: IBM

  • Теги:
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
апрель
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2010

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.