Главная » Новости » 2007 » 07 » 19 19 июля 2007

ASML отправила заказчику первую в мире систему для массового выпуска чипов по нормам 36,5 нм

Речь идет о литографической системе TWINSCAN XT:1900i, предназначенной для серийного выпуска продукции. Компания отмечает растущее количество заказов на это оборудование – по словам ASML, до конца года XT:1900i получат многие ведущие производители полупроводниковых приборов.

Имена заказчиков не разглашаются, но известно, что среди них есть, как производители памяти, так и компании, специализирующиеся на выпуске логических микросхем. Поток заказов на новую систему демонстрирует заинтересованность производителей в переходе на более тонкие нормы техпроцесса.

В TWINSCAN XT:1900i используется технология иммерсионной литографии HydroLith. Напомним, в иммерсионной литографии слой жидкости, находящийся между оптической системой и поверхностью пластины, дает возможность формировать структуры меньшего размера, чем обычная литография с использованием источника света с той же длиной волны.

Кроме того, иммерсия увеличивает глубину фокуса, что повышает качество структур, формируемых на поверхности пластины, по сравнению с теми, которые получаются при «сухой» фотолитографии равного разрешения. В основе XT:1900i – проверенная модель XT:1700i, широко используемая сейчас в серийном производстве. Основные особенности XT:1900i, которые отмечает производитель, следующие: рекордно большая числовая апертура (1,35) и разрешение (36,5 нм), высокая точность совмещения слоев (4,6 нм) и производительность (131 пластина в час).

Источник: ASML

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2007

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.