Речь идет о литографической системе TWINSCAN XT:1900i, предназначенной для серийного выпуска продукции. Компания отмечает растущее количество заказов на это оборудование – по словам ASML, до конца года XT:1900i получат многие ведущие производители полупроводниковых приборов.
Имена заказчиков не разглашаются, но известно, что среди них есть, как производители памяти, так и компании, специализирующиеся на выпуске логических микросхем. Поток заказов на новую систему демонстрирует заинтересованность производителей в переходе на более тонкие нормы техпроцесса.
В TWINSCAN XT:1900i используется технология иммерсионной литографии HydroLith. Напомним, в иммерсионной литографии слой жидкости, находящийся между оптической системой и поверхностью пластины, дает возможность формировать структуры меньшего размера, чем обычная литография с использованием источника света с той же длиной волны.
Кроме того, иммерсия увеличивает глубину фокуса, что повышает качество структур, формируемых на поверхности пластины, по сравнению с теми, которые получаются при «сухой» фотолитографии равного разрешения. В основе XT:1900i – проверенная модель XT:1700i, широко используемая сейчас в серийном производстве. Основные особенности XT:1900i, которые отмечает производитель, следующие: рекордно большая числовая апертура (1,35) и разрешение (36,5 нм), высокая точность совмещения слоев (4,6 нм) и производительность (131 пластина в час).
Источник: ASML