С 16 по 20 июля в Сан-Франциско пройдет конференция производителей полупроводниковой продукции SEMICON West 2007. В преддверии этого мероприятия, компания Cymer, основной мировой поставщик лазерных источников дальнего УФ-излучения (DUV), используемых в полупроводниковом производстве, представила лазер XLR 600i.
Устройство имеет выходную мощность 90 Вт и работает на частоте 193 нм. Это первый источник такой мощности на фториде аргона (ArF). Утверждается, что преимущества The XLR 600i по части производительности и доступности обеспечат производителям возможность массового выпуска продукции по самым совершенным технологиям литографии при одновременном снижении издержек.
В конструкцию лазера легли решения, проверенные на предыдущих разработках компании – лазерах XLR 500i и XLA 300. В частности, вместо каскада усиления мощности используется кольцевая рециркуляция (Recirculating Ring), а частота следования импульсов равна 6 кГц, что положительно сказывается на стабильности энергии импульса и позволяет точнее дозировать энергию. В свою очередь, это дает возможность точно соблюдать так называемые «критические размеры». Кроме того, в XLR 600i используется технология Advanced Bandwidth Stabilization (ABS), которая повышает предсказуемость и повторяемость результатов. Производитель отмечает экономичность XLR 600i – за счет применения технологии Gas Lifetime Extension (GLX), новый лазер в десять раз реже нуждается в «дозаправке» газом.
Напомним, в свое время компания Cymer выпустила первый в мире лазерный источник на базе ArF с частотой следования импульсов 6 кГц, предназначенный для серийного производства 45-нм полупроводниковых приборов. Предполагается, что новый лазер позволит применять иммерсионную фотолитографию с двойным шаблоном при переходе к нормам 32 нм и менее.
Источник: Cymer