Освоение все более тонких норм технологического процесса идет своим чередом. Пока отрасль определяется, какую технологию выбрать для перехода к отметкам 32 и 22 нм, оборудование для выпуска чипов по нормам 45 нм с использованием иммерсионной литографии поступает в распоряжение производителей. Корпорация Nikon сообщила об отгрузке первой в мире системы такого рода, предназначенной для серийного производства и способной работать по нормам 45-нм техпроцесса.
Речь идет об иммерсионном сканере NSR-S610C, в котором в качестве источника светового излучения длиной волны 193 нм используется эксимерный ArF-лазер. Как сообщается, численное значение апертуры проекционной оптической системы (NA) сканера составляет 1,30 – максимальное значение по отрасли в целом. Напомним, первые сведения о NSR-S610C появились около года назад, в ходе конференции SPIE Microlithography.
Сканер, официально представленный в июле прошлого года, предназначен для серийного производства по нормам 45 нм и может быть использован в разработках, связанных с переходом к 32-нм нормам и двойному экспонированию.
В NSR-S610C воплощены такие разработки Nikon, как технология «локального заполнения» (Local Fill Technology), предотвращающаяся появление дефектов, вызванных неоднородностями в жидкости и пластинах, и Tandem Stage – «двухпроходная» технология, позволяющая повысить производительность, точность и долгосрочную стабильность результатов.
Название компании, выступившей в роли заказчика, не разглашается. Известно, однако, что речь идет об одном из крупнейших производителей микросхем.
Источник: Nikon Precision