Как мы сегодня уже сообщали, в ходе конференции IEDM IBM и AMD, являющиеся технологическими партнерами, выступили с докладом, в котором рассказали о своих будущих 45-нм микросхемах. В этой связи весьма любопытно отметить, что упомянутые в докладе AMD и IBM иммерсионные литографические инструменты будут поставлены компанией ASML.
Напомним, что не далее как день назад мы уже отмечали, что с технологической точки зрения ASML и Nikon идут очень ровно, однако, так как Nikon предпочла пропустить некоторые итерационные этапы развития иммерсионных технологий, голландский производитель (ASML) уже получил ряд выгодных контрактов и предполагает получить ещё, что ставит под сомнение планы его японского конкурента на контроль более 50% рынка к 2008 году.
Тем более, что Intel (а вслед за ней и Samsung), как утверждает источник, совершенно точно не будет использовать иммерсионные технологии для производства по 45-нм нормам, планируя их внедрение в 32-нм производство. А если учесть то, что к началу внедрения 32-нм норм вполне могут оказаться готовы и EUV-литографические инструменты, то Nikon может и вовсе оказаться без заказов от крупнейших производителей, являющихся технологическими лидерами отрасли.
К тому же IM Flash, в которой Intel участвует вместе с Micron, оказалась в числе компаний, заключивших с ASML контракты на поставку 193-нм иммерсионного оборудования. Так же и Samsung, которая, по ранним слухам, не планировала задействовать иммерсионные технологии для 45-нм норм, будет приобретать иммерсионное оборудование ASML. Кроме корейского электронного и североамериканского микропроцессорного гигантов, с ASML подписали контракты такие компании, как Inotera, Nanya и TSMC.