Как полагают специалисты корпорации Intel, несмотря на общую тенденцию к постоянству цен на фотомаски, использующие технологии электронно-лучевой литографии устройства их обработки являются «главным тормозом» на пути выполнения закона Мура.
В течение долгих лет для обработки критически важных слоев фотомасок использовались именно электронно-лучевые приборы. Однако, производители фотомасок все чаще отзываются нелестно о таких устройствах из-за их высокой цены и медленной производительности. В настоящее время основными поставщиками электронно-лучевых инструментов являются JEOL, Hitachi, NuFlare и Vistec.
Также не восторге производители от фоторезистов, оборудования для контроля качества и других звеньев в цепи создания фотомасок. Впрочем, электронно-лучевые инструменты, стоимостью по 10-20 млн. долларов каждый, отстают по скорости развития больше всего, сообщает Энди Соуэрс (Andy Sowers), глава группы электронно-лучевой литографии в Intel Mask Operation.
По словам Соуэрса, с освоением каждого нового технологического процесса скорость записи увеличивалась на 25% и с 5-6 часов несколько лет назад дошла сегодня до 24 часов. Если приплюсовать к этому дополнительное время, требуемое на выравнивание луча, компенсацию дрейфа и тому подобное, то получается, что на создание одной фотомаски уходит несколько суток.
Конечно, ситуацию пытаются спасти - Applied Materials и Micronic Laser Systems AB предлагают системы записи фотомасок при помощи лазерного излучения. Но они, увы, не позволяют достичь такой же разрешающей способности, как сфокусированные пучки электронов. Так что, выходит, что закон Мура, которому скептики предрекали конец еще несколько лет назад, может прекратить действовать совсем не по той причине, по которой ожидалось. Если, конечно, специалисты Intel не придумают, как им решить проблему с фотомасками.