Первый EUV-инструмент поможет «Изобретению»

ПредыдущаяСледующая
1174

Компания ASML сообщает, что предоставила первый в мире литографический инструмент, использующий источник света с длиной волны в «жестком» ультрафиолетовом диапазоне – EUV (extreme ultraviolet). Инструмент поступил в распоряжение нанотехнологического колледжа Университета Олбани (столицы штата Нью-Йорк).

EUV-инструмент ADT (Alpha Demo Tool) стоимостью 65 млн. долларов предназначен для сугубо научно-исследовательских целей, а не производства коммерческих ИС. EUV ADT будет использован в рамках международного проекта Invent (англ. – изобретение, International Venture for Nanolithography), поддерживаемого штатом Нью-Йорк. В проекте Invent также участвуют AMD, IBM, Micron и Qimonda, а Sony и Toshiba принимают участие в других исследовательских проектах колледжа, связанных с EUV-технологией.

В университете уверены, что появление ASML ADT является важным шагом на пути внедрения EUV-технологии в производство и подчеркивают, что уже располагают достаточным количеством фотомасок для создания пробных экземпляров чипов по нормам 32-нм процесса. А присутствие сотрудников большого числа ведущих компаний позволяет надеяться, что процесс внедрения EUV-литографии не будет слишком долгим.

Нельзя не отметить, что в списке участников Invent нет корпорации Intel. А между тем именно Intel называется наблюдателями главным потенциальным покупателем EUV-оборудования, «впереди планеты всей» идущим к всё более тонким нормам. Intel уже освоила 65-нм и готовится к началу 45-нм производства, в то время как AMD, принимающая участие в Invent вместе с IBM, лишь планирует начать массовое 65-нм производство. И именно Intel должна была бы быть больше всех рада тому, что EUV-литография будет готова в срок – к моменту планового (в соответствии с законом Мура) перехода на 32-нм нормы. Однако, Intel, судя по всему, держит производителей литографического оборудования в «ежовых рукавицах», не давая им надежд на получение выгодного контракта, всячески сбивая цену на новые продукты или вообще отказываясь их покупать, как это было в случае с 157-нм литографическими инструментами и в случае с 193-нм иммерсионными сканерами для 65-нм норм. И даже есть данные, что Intel предпочтет использовать иммерсионные, но оптические (193-нм), а не EUV-инструменты, (строго говоря, длина волны 193 нм тоже соответствует ультрафиолету, но более «мягкому», и позволяет использовать собирающие линзы или катадиоптрические системы, в то время как для EUV возможно использование лишь исключительно рефлективных фокусирующих схем).

Так или иначе, но источник сообщает, что ASML готовится создать еще один «демонстрационный» EUV-инструмент, который будет предоставлен расположенному в Бельгии научно-исследовательскому центру IMEC. Известно, что кроме ASML, над EUV-технологиями вела работы и Nikon. Однако, о прогрессе японского вендора в этой области пока ничего не известно.

29 августа 2006 Г.

14:13

Ctrl
ПредыдущаяСледующая

Все новости за сегодня

Компания Intel анонсировала выпуск своего первого модема 5G: Одновременно был представлен модем LTE Cat-19, получивший обозначение Intel XMM 7660103

Jaguar Land Rover начинает испытания самоуправляемых машин на дорогах общего пользования: Испытания будут продолжены в будущем году5

Компания Megabots хочет провести первый в мире турнир по боям огромных роботов: В следующем году может быть проведёт первый турнир по боям гигантских роботов9

Видео дня: робот Boston Dynamics Atlas делает сальто назад: Робот Boston Dynamics Atlas научился запрыгивать на препятствия40

Смартфон Samsung Galaxy J2 Pro в новом поколении наконец-то получит современную платформу: Стали известны детали о смартфонах Samsung Galaxy J2 Pro и Galaxy J5 Prime нового поколения26

Volkswagen собирается выделить на электромобили и самоуправляемые машины более 34 млрд евро: Общая сумма инвестиций на период до 2022 года примерно равна 72 млрд евро17

Китай намерен создать космический корабль с ядерным двигателем: Ядерные космические корабли могут стать реальностью94

PowerColor похвасталась изображениями видеокарты Radeon RX Vega 64 Red Devil: Radeon RX Vega 64 Red Devil получит 12-фазную подсистему питания11

Набор модулей памяти G.Skill Trident Z DDR4-4400 суммарным объемом 32 ГБ работает с задержками CL19-19-19-39: По словам производителя, это самый быстрый набор DDR4 такого объема6

997
1318

iXBT TV

  • Заводские экзоскелеты, обновление Firefox, слишком умные наушники

  • Репортаж с конференции Supercomputing 2017 (SC17), день 3: стенд группы компаний РСК

  • Репортаж с конференции Supercomputing 2017 (SC17), день 2: стенд Intel

  • Репортаж с конференции Supercomputing 2017 (SC17), день 1: рейтинг Top500

  • Обзор кинотеатрального DLP-проектора LG PF1000U со встроенным ТВ-тюнером

  • Камера Panasonic G9, унитазный робот, игровой смартфон, кепка для водителей

  • Обзор портативной беспроводной колонки Sven PS-460

  • Обзор напольного пылесоса Tefal Silence Force 4A TW6477 с одноразовыми мешками для сбора мусора

  • Обзор сверхширокоугольного зум-объектива Canon EF 16-35mm f/2.8L III USM

  • Обзор изогнутого 34-дюймового IPS-монитора LG 34UC99 с соотношением сторон 21:9 и белым корпусом

  • Обзор робота-пылесоса Philips SmartPro Active (FC8822/01) с широкой насадкой TriActive XL

  • Обзор видеокамеры Canon XF405: съемка 4K-видео с высокой частотой кадров

1212

Календарь

август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс

Рекомендуем почитать