Как стало известно, компании Renesas Technology и Matsushita Electric Industrial, сотрудничающие в области освоения новых технологий, перешли на этап тестирования техпроцесса с использованием 45-нм норм.
Группа исследователей, работающая в лаборатории Renesas, уже развернула соответствующую установку для иммерсионной литографии. Поставщик оборудования не назван, зато известно, что в настоящее время установка используется для изготовления логических микросхем.
Сотрудничество между партнерами в области освоения новых техпроцессов началось в 1998 году, когда специалисты Matsushita и Mitsubishi Electric Corp. приступили к совместным исследованиям. Позже, когда Mitsubishi и Hitachi объединили свои подразделения, занятые выпуском полупроводниковой продукции, и сформировали компанию Renesas, она продолжила совместную работу с Mitsubishi. За прошедший период совместно были разработаны 130-нм, 90-нм и 65-нм техпроцессы.
Работа над 45-нм процессом началась в октябре прошлого года. Согласно планам, она должна завершиться осенью 2007 года. Серийный выпуск соответствующей продукции каждая из компаний намеревается освоить в 2008 финансовом году, который начинается в апреле 2008 года.
Напомним, над покорением 45-нм норм работает и другое крупное объединение производителей полупроводниковых изделий, в которое входят компании Toshiba, Sony и NEC Electronics.
Источник: EE Times