Главная » Новости » 2006 » 08 » 04 4 августа 2006

Matsushita и Renesas пробуют использовать 45-нм нормы

Как стало известно, компании Renesas Technology и Matsushita Electric Industrial, сотрудничающие в области освоения новых технологий, перешли на этап тестирования техпроцесса с использованием 45-нм норм.

Группа исследователей, работающая в лаборатории Renesas, уже развернула соответствующую установку для иммерсионной литографии. Поставщик оборудования не назван, зато известно, что в настоящее время установка используется для изготовления логических микросхем.

Сотрудничество между партнерами в области освоения новых техпроцессов началось в 1998 году, когда специалисты Matsushita и Mitsubishi Electric Corp. приступили к совместным исследованиям. Позже, когда Mitsubishi и Hitachi объединили свои подразделения, занятые выпуском полупроводниковой продукции, и сформировали компанию Renesas, она продолжила совместную работу с Mitsubishi. За прошедший период совместно были разработаны 130-нм, 90-нм и 65-нм техпроцессы.

Работа над 45-нм процессом началась в октябре прошлого года. Согласно планам, она должна завершиться осенью 2007 года. Серийный выпуск соответствующей продукции каждая из компаний намеревается освоить в 2008 финансовом году, который начинается в апреле 2008 года.

Напомним, над покорением 45-нм норм работает и другое крупное объединение производителей полупроводниковых изделий, в которое входят компании Toshiba, Sony и NEC Electronics.

Источник: EE Times

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2006

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.