Главная » Новости » 2006 » 02 » 17 17 февраля 2006

55-нм иммерсионная литография идет в серийное производство

Корпорация Nikon отправила заказчику первую в мире систему для серийной иммерсионной литографии, рассчитанную на технологический процесс по нормам 55 нм. Сведения о заказчике не разглашаются, известно только, что речь идет об одном из крупнейших производителей полупроводниковой продукции.

Система NSR-S609B предназначена для серийного выпуска полупроводниковой памяти по нормам 55 нм. Ее можно использовать в процессе разработки устройств по нормам 45 нм.

Среди особенностей новинки изготовитель выделяет "технологию локального заполнения" (Local Fill Technology) и "двухступенчатый подход" (Tandem Stage). Local Fill Technology позволяет бороться с дефектами полупроводниковой пластины и предотвращает испарение иммерсионной жидкости. Tandem Stage помогает повысить производительность системы, увеличить точность и стабильность долгосрочной работы. Суть Tandem Stage в разделении работы на два этапа: на "этапе экспозиции" (Exposure Stage) идет обработка пластин с высокой скоростью, а на "этапе калибровки" (Calibration Stage) происходит настройка прибора. Калибровка выполняется при каждой смене пластин. В итоге, по утверждению разработчика, удалось довести точность позиционирования сканера до 7 нм и менее.

Источник: Nikon Corporation

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2006

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.