Корпорация Nikon отправила заказчику первую в мире систему для серийной иммерсионной литографии, рассчитанную на технологический процесс по нормам 55 нм. Сведения о заказчике не разглашаются, известно только, что речь идет об одном из крупнейших производителей полупроводниковой продукции.
Система NSR-S609B предназначена для серийного выпуска полупроводниковой памяти по нормам 55 нм. Ее можно использовать в процессе разработки устройств по нормам 45 нм.
Среди особенностей новинки изготовитель выделяет "технологию локального заполнения" (Local Fill Technology) и "двухступенчатый подход" (Tandem Stage). Local Fill Technology позволяет бороться с дефектами полупроводниковой пластины и предотвращает испарение иммерсионной жидкости. Tandem Stage помогает повысить производительность системы, увеличить точность и стабильность долгосрочной работы. Суть Tandem Stage в разделении работы на два этапа: на "этапе экспозиции" (Exposure Stage) идет обработка пластин с высокой скоростью, а на "этапе калибровки" (Calibration Stage) происходит настройка прибора. Калибровка выполняется при каждой смене пластин. В итоге, по утверждению разработчика, удалось довести точность позиционирования сканера до 7 нм и менее.
Источник: Nikon Corporation