Корпорации Toshiba и NEC Electronics сообщают о заключении соглашения о совместной разработке КМОП-процессов с соблюдением норм 45 нм. В рамках соглашения, компании осуществят на базе центра микроэлектроники Toshiba Advanced Microelectronics Center в Йокогаме разработку технологических процессов для производства БИС (больших интегральных схем, LSI) по нормам 45 нм.
Есть данные, что NEC предлагала Toshiba объединить усилия в области 45-нм технологий еще в сентябре. Однако, так как в финансовом отчете за первую половину финансового года, завершившуюся 30 сентября, сообщалось об убытках на сумму в 12 млрд. йен (около 103 млн. долларов), что повлекло уход в отставку руководителя NEC, компании смогли договориться только сейчас.
Тем временем, Toshiba уже сейчас сотрудничает с Sony в деле разработки 45-нм технологий. Таким образом, NEC станет третьим участником научно-исследовательского процесса, происходящего в иокогамском TAMC.
Стоит также отметить, что NEC и Toshiba до сих пор конкурировали в области КМОП-процессов и проповедуют несколько разные подходы, например, к созданию интегрированной памяти: Toshiba использует траншейные (trench), а NEC – многоярусные (stacked) конденсаторы.
В настоящее время как Toshiba, так и NEC производят микросхемы «систем-на-чипе» с соблюдением норм 90-нм технологического процесса. Обе утверждают о готовности перейти на 65-нм нормы, но пока не торопятся это сделать.