Главная » Новости » 2005 » 11 » 09 9 ноября 2005

Cymer начинает поставки источника света для литографии по нормам 45 нм

Компания Cymer, поставщик источников ультрафиолетового излучения для полупроводникового производства, объявила о первой поставке изделия XLA 300. Событие важное - по сути дела, оно знаменует начало нового этапа в производстве: XLA 300 - первый в мире источник света на базе фторида аргона (ArF, длина волны 193 нм) с частотой следования импульсов 6 кГц. Он был разработан для использования в массовом производстве полупроводниковых изделий по технологии иммерсионной фотолитографии с соблюдением норм 45 нм.

Как утверждается в пресс-релизе, частота следования импульсов 6 кГц - максимальная среди источников света такого типа на данный момент. Выходная мощность XLA 300 достигает 60 Вт, что позволяет снизить энергию каждого импульса, одновременно сохранив среднюю мощность излучения. За счет этого сводится к минимуму повреждение оптических материалов самой лампы и проекционной оптики. Высокая частота, кроме того, позволяет точнее дозировать энергию - важное свойство с точки зрения производителей полупроводников, поскольку оно обуславливает точное соблюдение так называемых "критических размеров".

Ожидается, что источник четвертого поколения, основанный на проверенной разработке Cymer Master Oscillator Power Amplifier (MOPA), будет быстро принят рынком, поскольку потребность в таком оборудовании высока - производители торопятся поскорее освоить передовые технологии, укрепляя свои позиции в конкурентной борьбе.

Источник: Cymer

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
ноябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2005

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.