Как мы уже сообщали на прошлой неделе, еще до начала выставки-конференции Semicon West компании ASML и Nikon сделали ряд интересных сообщений, касающихся иммерсионных литографических технологий. Но, разумеется, самое интересное произошло в ходе самой выставки – в гонке за технологическое первенство к ASML и Nikon подключилась Canon и теперь все три компании спешат выпустить на рынок иммерсионные сканеры с числовой апертурой (numerical aperture, NA), равной 1,3. Такие сканеры ожидается применять в производстве полупроводниковых микросхем по 45-нм нормам, что может начаться уже через пару лет.
Итак, напомним, что незадолго до выставки Nikon выступила с сообщением о выпуске сканера с апертурой 1,07, предназначенного для массового производства по 55-нм нормам и выпуска пробных экземпляров с соблюдением 45-нм норм.
В ходе Semicon Nikon обнародовала некоторые детали своего сканера следующего поколения. Названный S6xx, инструмент использует 193-нм источник света, двухступенчатый дизайн и многоосевую катадиоптрическую оптическую систему, числовая апертура которой достигает 1,3. Размеры обрабатываемой области составляют 26х33 мм, и предназначается S6xx для производства микросхем по нормам 45-нм и выше. Как ожидается, доступен он будет в конце 2006 – начале 2007 года.
Чуть ранее, ASML сообщила о готовящемся к выпуску XT1700i – 193-нм иммерсионного сканера с апертурой 1,20, в то же время, есть данные, что компания работает над созданием XT1900i – также 193-нм сканера, но уже со значением NA, равным 1,3. Как и XT1700i, в XT1900i будет использован «двухстадийный» (dual-stage) дизайн и одноосевая катадиоптрическая оптическая система. Как ожидается, XT1900i будет объявлен в конце 2007 года, однако, под давлением со стороны Nikon, ASML будет сжимать сроки выпуска, чтобы не опоздать «к раздаче слонов».
Canon, сохранявшая безмолвие всю прошлую неделю, на Semicon решилась выступить с сообщением о своем первом иммерсионном продукте – 193-нм сканере, выполненном по двухступенчатой архитектуре и с числовой апертурой 1,3. Названный FPA7000, инструмент будет доступен в январе 2007 года.
Любопытно, что если ASML и Nikon взяли на вооружение тактику постепенного наращивания числовой апертуры в каждом новом поколении своих иммерсионных сканеров, то Canon решила «протуннелировать» этот процесс и сразу перейти от «сухих» 193-нм технологий к иммерсии.
Что также нельзя не отметить, так это то, что всем трем разработчикам, после фиаско 157-нм технологий, понадобилось сравнительно немного времени на то, чтобы переориентироваться на иммерсию. Однако, хотя Питер Сильверман (Peter Silverman), директор направления стратегических капиталовложений Intel и доволен прогрессом в этой области, в Intel пока не спешат говорить безоговорочное «да» иммерсионным технологиям и готовы ждать «статистически значимых данных» в течение еще нескольких месяцев.