В ответ на сообщение Nikon, заявившей о готовности выпустить иммерсионный сканер с числовой апертурой 1,07, ASML обещает к выставке Semicon West, начинающейся на следующей неделе в Сан-Франциско, представить сканер с числовой апертурой 1,20.
ASML XT1700i, использующий, как и остальные иммерсионные литографические инструменты, источники света на длине волны 193 нм, создан на базе двухступенчатой оптической платформы Twinscan, построенной по одноосной катадиоптрической системе (вместе с линзами в системе присутствует 3-4 рефрактивных элемента-зеркала). Как ожидается, поставки XT1700i начнутся во втором или третьем квартале 2006 года.
Помимо инструментов с апертурой, большей единицы, и ASML, и Nikon сделают доступными для исследовательских целей сканеры с апертурой менее 1,0. Новые иммерсионные сканеры предназначаются для изготовления полупроводниковых микросхем по нормам 45 нм.
ASML уже осуществила поставки нескольких иммерсионных инструментов с апертурой менее единицы нескольким своим клиентам, в том числе Albany Nanotech, Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC). Как полагают наблюдатели, Intel будет закупать иммерсионные сканеры как у ASML, так и у Nikon.