Главная » Новости » 2005 » 07 » 07 7 июля 2005

Intel и Corning будут делать EUV-маски вместе

Продолжая развивать идею внедрения ультрафиолетовой литографии (EUV, extreme-ultraviolet), Intel сообщила о начале работы с компанией Corning над EUV-масками, выполненными из стекла Corning, обладающего очень малыми показателями температурного расширения.

Подписание соглашения с Corning руководитель литографического подразделения Intel сравнил еще с одним звеном в длинной цепочке событий, которые должны будут привести к выпуску первых чипов по 32-нм нормам, намеченному на 2009 год. Кстати сказать, для Corning, известной своими линзами, это будет дебют на рынке EUV-масок, на котором уже присутствуют японская Hoya Glass и немецкая Schott Lithotec.

Стоит отметить, что поскольку, в отличие от обычной оптики, в ультрафиолетовой литографии используются рефрактивные методы формирования изображения, дефекты зеркал оказывают решающее влияние на качество литографической системы. При этом если для норм 90 нм SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) определяет нижнюю планку размера маски-бланка, свободного от дефектов, в 150 нм, то для 32-нм норм эта величина составляет всего 50 нм. Требования к качеству полировки полупроводниковой подложки и величин коэффициентов температурного расширения в EUV-литографии также выше, чем в современной литографии.

Кстати, проблемы обеспечения достаточной мощности лазерного излучения также никуда не делись, но в связи с перечисленными выше соображениями отошли на второй план. А ведь ни ASML, ни Nikon, скорее всего, не смогут достичь требуемого уровня в 115 Вт в первом поколении своих сканеров, но обещают достичь его во втором поколении литографических инструментов, которые уже можно будет использовать в массовом производстве.

Помимо Corning, Intel также сотрудничает с Nikon (EUV-сканеры), Cymer (EUV-источники), NaWoTec (электронно-лучевая обработка EUV-масок) и Media Lario (коллекторная оптика).

Не стоит думать, впрочем, что Intel целиком и полностью доверяет только EUV-литографии. Как сообщил представитель компании, Intel продолжит вложение средств в развитие иммерсионной литографии с источниками света на длине волны 193 нм, но если к 2009 году (на который намечено внедрение 32-нм норм в соответствие с роадмэпом ITRS) EUV-инструменты будут доступны, то процессорный гигант не откажется ее использовать.

Источник: EE Times

17:03 07.07.2005
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2005

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.